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NDK合成石英晶體術語及其定義
石英晶體諧振器的原材料是天然的石英和水晶，后來因為數量短缺而被大量的人工培植，在18世紀80年代初居里夫人發現其壓電效應之前，石英和水晶只是常見的礦石，可以制成工藝品供人觀賞。當自身的價值和光華被挖掘出來后，百年來水晶石英成為不可稀缺的資源，為了保證足夠的生產量，和節省制造成本，晶振廠家也在絞盡腦汁的培育，可替代而不影響性能的代替器，合成石英晶體就是在這樣的背景下誕生的。以下關于合成石英晶體的專業術語，術語定義和相關技術資料，均由日本NDK晶振公司撰寫，深圳市金洛鑫電子整理翻譯。
合成石英晶體:用單晶生長的水熱合成方法。
石英晶體:人造石英晶體的生長自然沒有處理。
包含: 固體成分(夾雜物) 的一般術語,存在于合成石英晶體中;他們可以觀察時,光被分散通過一個折射率接近的液體合成石英晶體諧振器。主要夾雜物acmite和 emeleusite。它們是由化學反應產生的。高壓釜內的Fe和合成石英晶體的生長框架,Na從溶液,SiO2 的材料,等高溫度和高壓下。
雙胞胎: Crystallographically,考慮到具體的方面或軸兩個或更多的晶體對稱地加入到一個晶體。幾乎所有的孿生諧振器晶體都是合成的石英晶體是電子的, 和電雙晶體影響合成石英晶體的形狀。他們可以很容易地在視覺上被識別。
石英晶體:合成石英晶體與X和Z表面根據指定尺寸加工和角度使用鉆石車輪 #80。Y型合成石英晶體:人造石英晶體生長通過使用在Y軸方向拉長的棒狀種子晶體。Z板合成石英晶體:合成石英晶體用Y軸方向的板狀種子晶體生長長度和X軸方向寬度。
右手和左手石英晶體:晶體是分為兩類:右撇子和左撇子。一個光旋轉的差異創造了2種類型, 但它們的物理屬性是相同的。因此,通過切割在正確的角度, 差異不影響特征一個晶體振蕩器。一般右手石英晶體是用于制造。
區域:晶體的一個區域, 從種子晶體生長在它的核心。有Z、+x、x和S區域。
蝕刻通道: 沿線性缺陷產生的管狀腔水晶蝕刻時的水晶。當處理一個用于制造音叉晶體的晶體片振蕩器或反轉臺面類型涉及蝕刻,合成石英晶體的低蝕刻通道密度特別合適。
紅外吸收系數α:這個值用一個紅外光譜儀作為紅外吸收的應用合成石英晶體的系數α。該值基于合成的OH基的吸收特性石英晶振是大約3800到3000cm-1的紅外線透射率曲線。通常, 吸收系數與波數3585、3500和3410cm-1已被采納。(正如通常的做法一樣,紅外Q值也被描述為參考。
石英晶體:晶體石英從α晶體變為β石英水晶諧振器由于相變，溫度為573℃。這一階段轉變是可逆的，但是從β石英晶體到α的轉變晶體不是均勻發生的，雙胞胎也是創造了。因此，必須小心，不要允許氣溫上升到573攝氏度以上。
石英晶體的性質：
成分:二氧化硅;晶體系統:三角系統;晶體群:D3(32);晶格常數:a=4.9027+70×10-6(t18);kXc=5.3934+47×10-6(t18)kX;1kX=1.0020630.00007+密度:2.649克/立方厘米;α-β相變溫度:573℃。
合成石英晶體以垂直型制造高壓釜(高溫高壓爐)水熱合成法。高壓釜由隔板分成上下兩個隔間。晶種放置在上層隔間(生長區)和材料中在下部(溶解區)。一種稀堿性溶液然后倒入剩余60%-80%的自由空間，蓋上蓋子后，用加熱器加熱高壓釜。當上隔室和下隔室的溫度高壓釜分別達到300-320℃和380-400℃，堿性溶液膨脹并被壓縮；里面的壓力達到130-145MPa。在這些高溫高壓下高壓釜的下部隔室溶解在堿中溶液變成二氧化硅飽和溶液。這飽和了溶液由于溫度引起的對流而上升的上隔室和下隔室之間的差異高壓釜。當溶液到達高壓釜，由于壓力降低，它變得過飽和隔間的溫度，并根據程度溫差二氧化硅在晶種上結晶。溶液然后返回到熱壓并溶解這些材料，從而成為二氧化硅飽和溶液，由于對流，它上升并循環重復。這個過程的重復導致連續的合成石英水晶振動子的生長。
NDK公司全稱是日本電波工業株式會社，1948年在東京成立，距今足足有70年的歷史，在世界范圍內都是有資歷有名望的頻率元件制造商，創辦之初只是一家小公司，小工廠，憑借努力和長期堅持的科研開發，領悟了石英晶體和晶振的技術要點和理念定義。這些資料無私的奉獻給業界和用戶，推動行業的創新與發展，被客戶授予“優秀合作供應商”的殊榮，NDK的石英晶振，貼片晶振，32.768K晶振，插件晶振，溫補晶振，晶體振蕩器，壓控晶振幾十年來在市場上火爆暢銷，被廣大客戶群體認證指定使用。
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